反渗透纯水设备采用的主要是反渗透技术，用于工业生产用水的纯水制取装置。一般可以将水的纯化过程大致分为4大部，预处理（初级净化）、反渗透（生产出纯水）、离子交换和终端处理（生产出符合特殊要求的超纯水）。
反渗透纯水设备进水条件
进水温度:<45℃（理想值25℃）
进水硬度:≤100PPM
PH:3-10
污染指数SDI:≤4
余氯:＜0.1mg/L
化学耗氧量:≤2mg/L
工艺流程
原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级反渗透→PH调节→中间水箱→二级反渗透(反渗透膜表面带正电荷)→纯化水箱→纯水泵→微孔过滤器→纯水箱→用水点
EDI高纯水设备特性
1、PLC全自动控制，无需人工值守，节省人力成本
2、EDI高纯水设备能连续生产出符合用户要求的超纯水，且不会因为再生而停机
3、设备出水水质高，出水稳定，能耗低，水利用率高，运行费用及维修成本低
4、关机时膜保护系统可自动冲洗膜面污染物，延长膜使用年限
5、结构紧凑，占地小，大大节省了基建投资
半导体超纯水设备是应用于半导体生产零件清洗的超纯水设备，需要符合特定的用水水质标准,半导体超纯水设备出水水质要符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业电子级水质技术标准18MΩ.cm以上
半导体超纯水设备是应用于半导体生产零件清洗的超纯水设备，需要符合特定的用水水质标准,半导体超纯水设备出水水质要符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm)我国电子工业超纯水水质试行标准、半导体工业用纯水指标、集成电路水质标准。
半导体(semiconductor)，指常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料。半导体材料很多，按化学成分可分为元素半导体和化合物半导体两大类。锗和硅是较常用的元素半导体;化合物半导体包括Ⅲ-Ⅴ族化合物：砷化镓、磷化镓等;Ⅱ-Ⅵ族化合物：硫化镉、硫化锌等;氧化物：锰、铬、铁、铜的氧化物，以及由Ⅲ-Ⅴ族化合物和Ⅱ-Ⅵ族化合物组成的固溶体：镓铝砷、镓砷磷等。除上述晶态半导体外，还有非晶态的玻璃半导体、有机半导体等。
电去离子（Electrodeionization）简称EDI，是一种将离子交换技术，离子交换膜技术和离子电迁移技术相结合的纯水制造技术。属高科技绿色环保技术。EDI净水设备具有连续出水、无需酸碱再生和无人值守等优点，已在制备纯水的系统中逐步代替混床作为精处理设备使用。这种先进技术的环保特性好，操作使用简便，愈来愈多地被人们所认可，也愈来愈多广泛地在医药、电子、电力、化工等行业得到推广。