常压烧结法（ PLS)
在提高烧结氮气氛压力方面，利用Si3N4分解温度升高（通常在N2 =1atm气压下，从1800℃开始分解）的性质，在1700———1800℃温度范围内进行常压烧结后，再在1800———2000℃温度范围内进压烧结。该法目的在于采用气压能促进Si3N4陶瓷组织致密化，从而提高陶瓷的强度.所得产品的性能比热压烧结略低。这种方法的缺点与热压烧结相似。
氮化硅砖的特性及应用范围
陶瓷行业
建筑卫生陶瓷行业
现阶段在陶瓷产品的烧成中，氮化硅常年回收，大多使用辊道窑烧成卫生陶瓷和墙地砖，而辊道窑的辊棒基本为氮化硅结合碳化硅材质。氮化硅结合碳化硅辊棒的应用解决了烧成温度高、荷重大这一难题，有效地降低了产品能耗，提高了产品质量。
日用陶瓷行业
日用陶瓷的烧成有两种方式：一种是用匣钵或类似的窑具使用梭式窑烧成;另外一种是与建筑卫生瓷烧成相同采用辊道窑烧成。采用氮化硅结合碳化硅材质的窑具可明显降低窑具与砖的质量比，节能降耗，同时还能提高产品的质量及合格率。使用辊道窑烧成日用陶瓷，采用氮化硅结合碳化硅辊棒提高了窑炉的使用寿命。
电瓷和电子陶瓷行业
电瓷和电子陶瓷行业需高温高强度、热稳定性好、使用寿命长、价格适宜的窑具材料，这为氮化硅结合碳化硅材质窑具的应用提供了广阔的市场。
性能氮化硅砖是以Si3N4为主要成分的耐火保温材料产品。相对密度3.19g/cm3。热膨胀系数小，西安氮化硅，为2.53×10-6/℃。1200℃下导热率18.4W/(m·K)。耐热性好，1200～2000℃热交换器上一千次不毁坏。抗折强度可达200~700MPa，耐空气氧化温度1400℃，在复原氛围中可达1870℃。室内温度电阻1.1×1014Ω·m。选用硅粉渗氮后煅烧或压合方式制得。
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