十级口罩洁净车间-净化工程解决方案
口罩生产空间单位都是以微米计算，微尘颗粒沾附在制作口罩生产上，便有可能影响到其上精密导线布局的样式，造成短路或断路的严重后果。所有口罩制程设备都必须安置在隔绝粉尘进入的密闭空间中，这就是口罩无尘车间的来由。
在工程公司设计中，口罩净车间中相对湿度的目标值大约控制在30至50%的范围内，允许误差在±1%的狭窄的范围内，例如光刻区──或者在远紫外线处理（DUV）区甚zui小──而在其他地方则可以放松到±5%的范围内。因为相对湿度有一系列可能使洁净室总体表现下降的因素，
十级口罩无尘车间工程
洁净车间细菌生长；工作人员感到室温舒适的范围；出现静电荷；金属腐蚀；水汽冷凝；光刻的退化；吸水性。细菌和其他生物污染（霉菌，病毒，真菌，螨虫）在相对湿度超过60%的环境中可以活跃地繁殖。一些菌群在相对湿度超过30%时就可以增长。在相对湿度处于40%至60%的范围之间时，可以使细菌的影响以及呼吸道感染降至zui低。相对湿度在40%至60%的范围同样也是人类感觉舒适的适度范围。湿度过高会使人觉得气闷，而湿度低30%则会让人感觉干燥，皮肤皲裂，呼吸道不适以及情感上的不快。
高湿度实际上减小了洁净室表面的静电荷积累──这是人们希望的结果。较低的湿度比较适合电荷的积累并成为潜在的具有破坏性的静电释放源。当相对湿度超过50%时，静电荷开始迅速消散，当相对湿度小于30%时，它们可以在绝缘体或者未接地的表面上持续存在很长一段时间。相对湿度在35%到40%之间可以作为一个令人满意的折中，口罩洁净室一般都使用额外的控制装置以限制静电荷的积累。很多化学反应的速度，包括腐蚀过程，将随着相对湿度的增高而加快。所有暴露在洁净室周围空气中的表面都很快地被覆盖上一层单分子层的水。当这些表面是由可以与水反应的薄金属涂层组成时，高湿度可以使反应加速。
一些金属例如铝，可以与水形成一层保护型的氧化物，并阻止的氧化反应；但另一种情况是，例如氧化铜，是不具有保护能力的。在高湿度的环境中，铜制表面更容易受到腐蚀。在高的相对湿度环境下，由于水分的吸收，使烘烤循环后光刻胶膨胀加重。光刻胶附着力同样也可以受到较高的相对湿度的负面影响；较低的相对湿度（约30%）使光刻胶附着更加容易，甚至需要聚合改性剂。在口罩洁净室中控制相对湿度不是随意的。随着时间的变化，zui好回顾一下常见的被普遍接受的实践的原因和基础。
口罩洁净无尘车间的相关的技术和使用管理办法：1.口罩洁净无尘车间内部要确保粉尘只出不进，洁净无尘车间室内要保持大于大气压的环境。这就需要用大型鼓风机将经净化设备的空气源源不绝地打入洁净车间中。2.为保持恒温与恒湿，大型空调设备须搭配前述之鼓风加压系统使用。鼓风机加压多久，空调就得开多久。3.所有经净化设备的空气流动方向均由上往下为主。洁净无尘车间室内空间设计或机台摆放应避免突兀，使尘埃细菌等在洁净无尘车间内回旋停滞的机会与时间减至zui低程度。4.所有建材均以不易产生静电吸附的材质为主。5.所有人或事物进出洁净无尘车间，人必须穿配套防尘服，人或事物都要经过风淋室吹淋以将表面粉尘先行除掉。6.口罩洁净无尘车间内水的使用只限用去离子水。一则防止水中粉粒污染晶圆，二则防止水中重金属离子(如钾、钠离子)污染金氧半晶体管结构之带电载子信道，影响口罩生产的工作特性。去离子水是良好的溶剂与清洁剂，在口罩工业之使用量极为惊人!7.口罩洁净无尘车间所有用得到的气源，包括吹干晶圆及机台空压所需要的，都得使用氮气(98%)，吹干晶圆的氮气甚至要求99.8%以上的高纯氮。
口罩净化车间空气过滤器过滤效率: 过滤0.1微米的粒子产品特点:口罩洁净无尘车间所有用得到的气源，包括吹干晶圆及机台空压所需要的，都得使用氮气(98%)，吹干晶圆的氮气甚至要求99.8%以上的高纯氮。应用场所:制药工业、医院（手术室、无菌病房）食品、化妆品、饮料产品生产、动物实验室、理化检验室、血站等。细菌学、生物学、洁净实验室、生物工程（重组基因、疫苗制备）等行业。湿度对于我们人体舒适性来说，可能不会特别明显，可是对于生产工艺往往会有很大的影响，特别是对湿度要求很高的地方，而湿度往往也是zui不好控制的，这也是为什么洁净室的温湿度控制上，都讲究湿度优先。
